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微波等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在...

如何保養(yǎng)晶圓清洗機(jī)？保養(yǎng)晶圓清洗機(jī)的方法有哪些？保養(yǎng)晶圓清洗機(jī)注意事項有哪些？下面就由小編為大家總結(jié)了一些使用經(jīng)驗，希望能對大家在養(yǎng)護(hù)時得到幫助。日常維護(hù)：1、沖洗接入清潔劑的軟管和過濾器，去除任何洗滌劑的殘留物以助于防止腐蝕；2、關(guān)斷連接到清洗機(jī)上的供水系統(tǒng)；3、扣動伺服噴槍桿上的扳機(jī)可以將軟管里全部壓力釋放掉；4、從清洗機(jī)上卸下橡膠軟管和高壓軟管；5、切斷火花塞的連接導(dǎo)線以確保發(fā)動機(jī)不會啟動(適用于發(fā)動機(jī)型)。電動型:將電源開關(guān)轉(zhuǎn)到‘開’和‘關(guān)’的位置四到五次每次1-3秒...

兆聲無損清洗設(shè)備不僅保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗設(shè)備理由是由高頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。如何選購兆聲無損清洗設(shè)備，隨著“以養(yǎng)代修”理念的深進(jìn)推廣，為了進(jìn)步發(fā)...

微波等離子去膠機(jī)操作規(guī)程：1、自動切割小車應(yīng)經(jīng)空車運轉(zhuǎn)，并選定切割速度；2、使用釷、鎢電極應(yīng)符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；3、高頻發(fā)生器應(yīng)設(shè)有屏蔽護(hù)罩，用高頻引弧后，應(yīng)立即切斷高頻電路；4、應(yīng)檢查并確認(rèn)電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人員應(yīng)站在上風(fēng)處操作。可從工作臺下部抽風(fēng)，并宜縮小操作臺上的敞開面積；6、小車、工件應(yīng)放在適當(dāng)位置，并應(yīng)使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應(yīng)設(shè)有溶渣坑；7、微波等離子去膠機(jī)應(yīng)根據(jù)工件材質(zhì)、種類和...

汽輪機(jī)組的熱真空系統(tǒng)是由抽真空系統(tǒng)和密封蒸汽系統(tǒng)兩部分組成，其作用就是用來建立汽輪機(jī)組的低背壓，也就是用來建立凝汽器的高真空，使蒸汽能夠zui大限度的把熱焓轉(zhuǎn)變?yōu)槠啓C(jī)的動能。在汽輪機(jī)組尚未投入運行時，凝汽器中的真空取決于抽熱真空系統(tǒng)所建立的真空；在汽輪機(jī)組投入運行后，抽真空系統(tǒng)只是把泄漏到汽輪機(jī)內(nèi)部的空氣和不凝結(jié)氣體及時抽走，凝汽器內(nèi)的真空主要取決于進(jìn)入凝汽器內(nèi)的蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況，而蒸汽與循環(huán)冷卻水的熱交換情況主要取決于凝汽器的換熱面積、循環(huán)冷卻水溫度和循環(huán)水量...

兆聲無損清洗機(jī)不但保存了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了它的不足。兆聲無損清洗機(jī)的機(jī)理是由高能(850kHz)頻振效應(yīng)并結(jié)合化學(xué)清洗劑的化學(xué)反應(yīng)對硅片進(jìn)行清洗的。在清洗時，由換能器發(fā)出波長為1μm頻率為0.8兆赫的高能聲波。溶液分子在這種聲波的推動下作加速運動，zui大瞬時速度可達(dá)到30cm/s。因此，形成不了超聲波清洗那樣的氣泡,而只能以高速的流體波連續(xù)沖擊晶片表面,使硅片表面附著的污染物的細(xì)小微粒被強(qiáng)制除去并進(jìn)入到清洗液中。兆聲無損清洗機(jī)的特點：兆聲能有效地清除亞微細(xì)顆粒。兆...

微波等離子清洗機(jī)的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。微波等離子清洗機(jī)技術(shù)的zui大特點是不分處理對象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和...

一．產(chǎn)品結(jié)構(gòu)晶圓清洗機(jī)主要結(jié)構(gòu)特點：1、采用三套獨立的電腦控制機(jī)械臂自動化作業(yè)2、采用第三代技術(shù)，全面完善的防酸防腐措施，保護(hù)到機(jī)器每一個角落3、全自動補液技術(shù)4、*的硅片干燥前處理技術(shù)，保證硅片干燥不留任何水痕5、成熟的硅片干燥工藝，多種先進(jìn)技術(shù)集于一身6、彩色大屏幕人機(jī)界面操作，方便參數(shù)設(shè)置多工藝方式轉(zhuǎn)換二．產(chǎn)品特點晶圓清洗機(jī)具有以下特點：1、械手或多機(jī)械手組合，實現(xiàn)工位工藝要求。2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面，操作便利。3、自動上下料臺，準(zhǔn)確上卸工件。4、凈化烘干...