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技術(shù)文章/ article

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  • 2022-08-31

    Nano-Master的遠(yuǎn)程微波等離子體化學(xué)氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)應(yīng)用范圍廣泛,包含:基片或粉體的等離子誘導(dǎo)表面改性等離子清洗粉體或顆粒表面等離子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的選擇性生長(zhǎng)單晶或多晶金剛石生長(zhǎng)微波模塊:NANO-MASTER高質(zhì)量長(zhǎng)壽命遠(yuǎn)程微波源,頻率為2.45GH,微波發(fā)射功率可以自主調(diào)節(jié),微波反射功率可通過調(diào)節(jié)降低至發(fā)射功率的千分之一以內(nèi)。遠(yuǎn)程微波源,可實(shí)現(xiàn)無損傷缺陷的沉積或生長(zhǎng)。設(shè)備腔體:水冷側(cè)壁,確保在高溫工藝下腔體外表面...

  • 2022-08-23

    主要用途:MEMS壓力傳感器加工工藝中光刻膠批量處理;去除有機(jī)或無機(jī)物,而無殘留;去膠渣、深刻蝕應(yīng)用;半導(dǎo)體晶圓制造中光刻膠及SU8工藝;平板顯示生產(chǎn)中等離子體預(yù)處理;太陽能電池生產(chǎn)中邊緣絕緣和制絨;先進(jìn)晶片(芯片)封裝中的襯底清潔和預(yù)處理;工作原理介紹:為了產(chǎn)生等離子,系統(tǒng)使用遠(yuǎn)程微波源。氧在真空環(huán)境下受高頻及微波能量作用,電離產(chǎn)生具有強(qiáng)氧化能力的游離態(tài)氧原子,它在高頻電壓作用下與光刻膠薄膜反應(yīng),反應(yīng)后生成的CO2和H2O通過真空系統(tǒng)被抽走。CF4氣體可以達(dá)到更快速的去膠速...

  • 2022-08-22

    兆聲清洗機(jī)是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備,并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力,并可用于非常廣泛的基片。提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng),可以zui大程度節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力,提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。兆聲清洗機(jī)具有以下特點(diǎn):1、械手或多機(jī)械手組合,實(shí)現(xiàn)工位工藝要求。2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面,操作便利。3、...

  • 2022-07-25

    硅片清洗機(jī)是利用超聲波清洗技術(shù),在清洗過程中超聲波頻率在合理的范圍內(nèi)往復(fù)掃動(dòng),帶動(dòng)清洗液形成細(xì)微回流,使工件污垢在被超聲剝離的同時(shí)迅速帶離工件表面,提高清洗效率。一、硅片清洗機(jī)的工作原理是什么1、真空脫氣,有效去除液體中氣體,且運(yùn)用拋動(dòng)功能,增強(qiáng)超聲對(duì)工件表面油污和污垢的清洗能力,縮短清洗時(shí)間。2、洗籃轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu),重疊不可分拆的零件或形狀復(fù)雜的零件,也可做到均勻完整的清洗。3、減壓真空系統(tǒng),能吸出盲孔、縫隙及疊加零件之間的空氣,使超聲波在減壓的狀態(tài)下產(chǎn)生驚人的清洗效果。4、真空...

  • 2022-06-23

    微波等離子去膠機(jī)適用于小批量生產(chǎn)和研發(fā)的設(shè)備。并且,此系統(tǒng)可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統(tǒng)是一款創(chuàng)新型的通用設(shè)備,可選配旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤,及ECR(電子回旋共振)裝置。微波等離子去膠機(jī)的工作原理:氧等離子去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體,具有活性的氧等離子體與有機(jī)聚合物發(fā)生氧化反應(yīng),是的有機(jī)聚合物被氧化成水汽和二氧化碳等排除腔室,從而達(dá)到去除光刻膠的目的,這個(gè)過程我們有時(shí)候也稱之為灰化或者掃膠。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡(jiǎn)單、適應(yīng)性更好,去膠過程純...

  • 2022-06-22

    主要功能:主要用于半導(dǎo)體應(yīng)用,及各種需要進(jìn)行微納工藝濺射鍍膜的情形。可以用于金屬材料(金、銀、銅、鎳、鉻等)的直流濺射、直流共濺射,絕緣材料(如陶瓷等)的射頻濺射,以及反應(yīng)濺射能力?;芍С止杵?,氧化硅片,玻璃片,以及對(duì)溫度敏感的有機(jī)柔性基片等。工作原理:通過分子泵和機(jī)械泵組成的兩級(jí)真空泵對(duì)不銹鋼腔體抽真空,當(dāng)廣域真空計(jì)顯示的讀數(shù)達(dá)到10-6Torr量級(jí)或更高的真空時(shí),主系統(tǒng)的控制軟件通過控制質(zhì)量流量計(jì)精確控制Ar氣體(如需要濺射氧化物薄膜,可增加O2),此時(shí)可以設(shè)定工藝所...

  • 2022-05-20

    微波等離子去膠清洗機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng),可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理或后處理;MEMS制造中的犧牲層去除。下面為大家介紹微波等離子去膠清洗機(jī)使用中的四大影響因素,希望對(duì)大家有所幫助。一、調(diào)整合適的頻率:頻率越高,氧越容易電離形成等離子體。如果頻率過高,使電子振幅短于其平均自由程,電子與氣體分子碰撞的概率就會(huì)降低,導(dǎo)致電離率降低...

  • 2022-04-24

    離子銑刻蝕系統(tǒng)是利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對(duì)固體材料濺射刻蝕,對(duì)固體器件進(jìn)行微細(xì)加工。離子銑刻蝕系統(tǒng)的原理:氬氣在輝光放電原理的作用下被分解為氬離子,氬離子通過陽極電場(chǎng)的加速物理轟擊樣品表面來使得刻蝕的作用達(dá)到。往離子源放電室充入氬氣并且使其電離使得等離子體形成,然后通過柵極引出離子呈束狀并且加速,往工作室進(jìn)入一定能量的離子束,往固體表面射向?qū)腆w表面原子進(jìn)行轟擊,使材料原子發(fā)生濺射,使刻蝕目的達(dá)到,屬于純物理刻蝕...

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