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繼NANO-MASTER*技術(shù)的帶淋浴頭氣流分布的平面ICP離子源應(yīng)用于NANO-MASTER的刻蝕系統(tǒng)，ICPECVD沉積系統(tǒng)，PA-MOCVD生長系統(tǒng)之后，該ICP離子源順利應(yīng)用于ALD系統(tǒng)。由于該型技術(shù)設(shè)計(jì)的ICP源為平面設(shè)計(jì)的遠(yuǎn)程等離子源，可以在更低電源下達(dá)到更高的離子密度，具有電子溫度低、離子密度高、腔體空間占比低等優(yōu)勢(shì)，確保了該ALD系統(tǒng)具有薄膜無損傷、生長速度快、脈沖周期短（沉積效率可以達(dá)到兩倍以上）的先進(jìn)性能。此外，可以實(shí)現(xiàn)低溫（100度以內(nèi)）的薄膜生長。

微波等離子清洗機(jī)技術(shù)在橡塑行業(yè)的應(yīng)用已非常成熟，其相關(guān)產(chǎn)值逐年增加，國外市場(chǎng)比國內(nèi)市場(chǎng)產(chǎn)值高，但國內(nèi)可發(fā)展空間大，應(yīng)用前景誘人。經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也越來越高，微波等離子清洗機(jī)技術(shù)隨之逐步進(jìn)入生活消費(fèi)品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性，并投入大量資金進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)，微波等離子清洗機(jī)技術(shù)在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們深信等離子技術(shù)應(yīng)用范圍會(huì)越來越廣；技術(shù)的成熟...

微波等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)：一、清洗對(duì)象經(jīng)微波等離子清洗機(jī)之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率。二、微波等離子清洗機(jī)使得用戶可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關(guān)注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性。四、微波等離子清洗機(jī)采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體...

RIE-PE刻蝕機(jī)其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。RIE-PE刻蝕機(jī)是在濕法腐蝕技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，屬于純化學(xué)性腐蝕。這種方法腐蝕均勻性好、損傷小，缺點(diǎn)是各向刻蝕同性，對(duì)于1μm以下的細(xì)線條線寬損失明顯。所以，在等離子刻蝕的基礎(chǔ)上改進(jìn)反應(yīng)結(jié)構(gòu)和接電方式，出現(xiàn)了反應(yīng)離子刻蝕。該方法加快了縱向的腐蝕速度，具有各向異性的腐蝕...

無論是無機(jī)材料還是有機(jī)材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會(huì)造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機(jī)材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細(xì)小，戴鏡者不容易察覺；另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會(huì)影響視力。1、*代光學(xué)鍍膜系統(tǒng)技術(shù)抗磨損膜始于20世紀(jì)70年代初，當(dāng)時(shí)認(rèn)為玻璃鏡片不易磨制是因?yàn)槠溆捕雀?，而有機(jī)鏡片則太軟所以容易磨...

任何一種光學(xué)儀器的用途和使用條件必然會(huì)對(duì)它的光學(xué)系統(tǒng)提出一定的要求，因此，在我們進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)之前一定要了解對(duì)光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的要求。這些要求概括起來有以下幾個(gè)方面。一、光學(xué)系統(tǒng)的基本特性：數(shù)值孔徑或相對(duì)孔徑；線視場(chǎng)或視場(chǎng)角；系統(tǒng)的放大率或焦距。此外還有與這些基本特性有關(guān)的一些特性參數(shù)，如光瞳的大小和位置、后工作距離、共軛距等。二、系統(tǒng)的外形尺寸：光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的外形尺寸，即系統(tǒng)的橫向尺寸和縱向尺寸。在設(shè)計(jì)多光組的復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)時(shí)，外形尺寸計(jì)算以及各光組之間光瞳的銜接都是很重要的。三、...

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)是改變光學(xué)零件表面特征而鍍?cè)诠鈱W(xué)零件表面上的一層或多層膜?？梢允墙饘倌?、介質(zhì)膜或這兩類膜的組合。光學(xué)薄膜是各種先進(jìn)光電技術(shù)中*的一部分，它不僅能改善系統(tǒng)性能，而且是滿足設(shè)計(jì)目標(biāo)的必要手段，光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個(gè)方面，包括激光系統(tǒng)，光通信，光顯示，光儲(chǔ)存等，主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。下面就由小編具體為大家介紹分析光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識(shí)，以作為參考希望能夠幫助到大家。光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的定義是：涉及光在傳播路徑過程...

進(jìn)口雙模式刻蝕機(jī)全自動(dòng)上下載片，帶低溫晶圓片冷卻和偏壓樣品臺(tái)的深硅刻蝕系統(tǒng)，帶8"ICP源。系統(tǒng)可以配套500L/S抽速的渦輪分子泵，可以使得工藝壓力達(dá)到幾mTorr的水平。在低溫刻蝕的技術(shù)下，系統(tǒng)可以達(dá)到硅片的高深寬比刻蝕。進(jìn)口雙模式刻蝕機(jī)主要特點(diǎn)：基于PC控制的緊湊型立柜式百級(jí)DRIE深硅刻蝕系統(tǒng)，擁有高縱橫比的刻蝕能力；配套LabView軟件，菜單驅(qū)動(dòng)，自動(dòng)記錄數(shù)據(jù)；觸摸屏監(jiān)控；全自動(dòng)系統(tǒng)，帶安全聯(lián)鎖；四級(jí)權(quán)限，帶密碼保護(hù)；自動(dòng)上下載片；帶LoadLock預(yù)真空鎖；He...