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SWC-3000兆聲晶圓(掩模版)清洗機

SWC-3000兆聲晶圓(掩模版)清洗機:Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-04-28
  • 訪  問  量:2762
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產(chǎn)品詳情

SWC-3000兆聲晶圓(掩模版)清洗機概述:

兆聲和清洗技術的發(fā)展,對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平,可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。

NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng),用于的無損兆聲清洗??梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

SWC系統(tǒng)提供了可控的化學試劑滴膠能力,這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng),可以*節(jié)省化學試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學試劑混合能力,提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。

SWC-3000兆聲晶圓(掩模版)清洗機應用:

  • 帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
  • Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
  • CMP處理后的晶圓片清洗
  • 晶圓框架上的切粒芯片清洗
  • 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
  • 帶保護膜的分劃版清洗
  • 掩模版空白部位或接觸部位清洗
  • X射線及極紫外掩模版清洗
  • 光學鏡頭清洗
  • ITO涂覆的顯示面板清洗
  • 兆聲輔助的剝離工藝

特點:

  • 臺式系統(tǒng)
  • 無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉甩干
  • 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
  • 微處理機自動控制
  • IR紅外燈

選配項:

  • 掩模版或晶圓片夾具
  • PVA軟毛刷清洗
  • 化學試劑清洗(CDU)
  • 氮氣離子發(fā)生器

 

 

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