NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達(dá)6“旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2023-11-13
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產(chǎn)品詳情

磁控濺射技術(shù)

NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)6"旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10^-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10^-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3000帶有12”派熱克鐘罩腔體，2個(gè)2”的磁控管，DC直流和RF射頻電源。在選配方面，我們提供不銹鋼腔體，260 l/s渦輪分子泵，額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：

不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃
70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵
13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能

選配項(xiàng)：

不銹鋼腔體
RF、DC濺射
RF或DC偏壓（1000V）
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測儀
基片的RF射頻等離子清洗
預(yù)真空鎖以及自動晶圓片上/下載片

應(yīng)用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
光學(xué)以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

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