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NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)

NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng):自動(dòng)上下載片,帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)可以達(dá)到高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕效果??蓪?shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝,包括刻蝕III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介質(zhì)材料、玻璃、石英、金屬,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-04-28
  • 訪  問  量:2128
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產(chǎn)品詳情

ICP等離子刻蝕

NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)概述:自動(dòng)上下載片,是帶ICP等離子源和偏壓樣品臺(tái)的高速刻蝕系統(tǒng),具有高速率、低損傷、高深寬比的刻蝕能力。可實(shí)現(xiàn)范圍廣泛的刻蝕工藝,包括刻蝕III-V化合物(如GaAs,InP,GaN,InSb)、II-VI化合物、介質(zhì)材料、玻璃、石英、金屬,以及硅和硅的化合物(如SiO2、Si3N4、SiC、SiGe)等。

NRE-4000(ICPA)全自動(dòng)ICP刻蝕系統(tǒng)主要特點(diǎn):

  • 基于PC控制的立柜式百級(jí)ICP-RIE刻蝕系統(tǒng),擁有快速的刻蝕能力;

  • 配套Lab View軟件,菜單驅(qū)動(dòng),自動(dòng)記錄數(shù)據(jù);

  • 觸摸屏監(jiān)控;

  • 全自動(dòng)系統(tǒng),帶安全聯(lián)鎖;

  • 四級(jí)權(quán)限,帶密碼保護(hù);

  • 自動(dòng)上下載片;

  • 帶Load Lock預(yù)真空鎖;

  • 可以支持ICP和RIE兩種刻蝕模式;

  • 實(shí)時(shí)顯示真空、功率、反射功率圖表,以及流量實(shí)時(shí)顯示;

配置內(nèi)容:

  • 外觀尺寸:緊湊型立柜式設(shè)計(jì),不銹鋼腔體,外觀尺寸為44"(W) x 26"(L) x62"(H);

  • 等離子源:NM-ICP平面電感耦合等離子體源,帶有自動(dòng)調(diào)諧器,激活面積可以達(dá)到8";

  • 處理腔體:13"的圓柱形超凈腔體,材質(zhì)為陽極電鍍鋁。晶片通過氣動(dòng)頂蓋裝載,腔體帶有上載安全鎖,用戶可以通過PC控制,至大可支持的晶圓尺寸為6"。腔體帶有2"的觀察窗口。腔體頂部的噴嘴式氣流分配裝置,提供8"區(qū)域的氣體均勻分布。系統(tǒng)帶暗區(qū)保護(hù)。

  • 樣品臺(tái):6"的托盤夾具,能夠支持6"的Wafer??梢灾С掷鋮s功能,包含氣動(dòng)截止閥;

  • 流量控制:支持6個(gè)或更多的MFC’s 用于ICP高速刻蝕,帶氣動(dòng)截止閥,所有的慢/快通道采用電磁閥和氣動(dòng)閥控制,電拋光的不銹鋼氣體管路帶有VCR和VCO(壓控振蕩器)配件,所有導(dǎo)管以盡可能短的導(dǎo)軌密封設(shè)計(jì),從而減低空間浪費(fèi)并達(dá)到快速的氣路切換。所有處理氣體的管路在處理結(jié)束后,采用N2自動(dòng)沖洗。

  • 真空系統(tǒng):泵組包含渦輪分子泵和旋葉真空泵。

  • RF電源:13.56MHz,帶自動(dòng)調(diào)諧功能的1200W射頻電源,作為ICP源。另外,帶自動(dòng)調(diào)諧功能的600W射頻電源用于基臺(tái)偏壓。

  • 操作控制:整個(gè)系統(tǒng)通過預(yù)裝的Lab View軟件和觸摸監(jiān)控系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)PC全自動(dòng)控制。MFC,閥和頂蓋都是氣動(dòng)式的,都可PC控制。系統(tǒng)的實(shí)時(shí)壓力和直流自偏壓以圖表格式顯示,而流量和功率則以字母數(shù)字形式顯示。系統(tǒng)提供密碼和安全連鎖機(jī)制的四級(jí)權(quán)限控制。

應(yīng)用領(lǐng)域:

  • LED

  • MEMS

  • 光柵

  • 激光器

  • 微光學(xué)

  • 聲光器件

  • 高頻器件/功率器件

  • 量子器件

  • 光子晶體

  • 探測器等


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