等離子去膠機操作及配合人員防護

更新時間：2019-06-24

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　　等離子去膠機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計算機全自動控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。

　　去膠工藝是微加工實驗中一個非常重要的過程。在電子束曝光、紫外曝光等微納米加工工藝之后，都需要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠去除的是否干凈*、對樣片是否有損傷等問題將直接影響到后續(xù)工藝的順利完成。德國ALPHA PLAMSA擁有多年的去膠經(jīng)驗，致力于給您提供專業(yè)的微波等離子體去膠機系統(tǒng)，并提供專業(yè)的技術(shù)支持服務(wù)。

　　等離子去膠機操作規(guī)程：

　　1、自動切割小車應(yīng)經(jīng)空車運轉(zhuǎn)，并選定切割速度；

　　2、使用釷、鎢電極應(yīng)符合JGJ33-2001第12.7.8條規(guī)定；

　　3、高頻發(fā)生器應(yīng)設(shè)有屏蔽護罩，用高頻引弧后，應(yīng)立即切斷高頻電路；

　　4、應(yīng)檢查并確認電源、氣源、水源無漏電、漏氣、漏水，接地或接零安全可靠；

　　5、操作人員應(yīng)站在上風(fēng)處操作?？蓮墓ぷ髋_下部抽風(fēng)，并宜縮小操作臺上的敞開面積；

　　6、小車、工件應(yīng)放在適當(dāng)位置，并應(yīng)使工件和切割電路正極接通，切割工作面下應(yīng)設(shè)有溶渣坑；

　　7、等離子去膠機應(yīng)根據(jù)工件材質(zhì)、種類和厚度選定噴嘴孔徑，調(diào)整切割電源、氣體流量和電極的內(nèi)縮量；

　　8、當(dāng)空載電壓過高時，應(yīng)檢查電器接地、接零和割炬手把絕緣情況，應(yīng)將工作臺與地面絕緣，或在電氣控制系統(tǒng)安裝空載斷路斷電器；

　　9、微波等離子去膠機操作人員必須戴好防護面罩、電焊手套、帽子、濾膜防塵口罩和隔音耳罩。不戴防護鏡的人員嚴禁直接觀察等離子弧，裸露的皮膚嚴禁接近等離子弧。

　　等離子去膠機操作及配合人員防護：

　　1、作業(yè)后，應(yīng)切斷電源，關(guān)閉氣源和水源；