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微波等離子去膠機(jī)的工作原理及性能特點(diǎn)

更新時間:2024-03-25      瀏覽次數(shù):477
  微波等離子去膠機(jī)是一種先進(jìn)的半導(dǎo)體制造設(shè)備,用于去除晶圓表面的光刻膠。在半導(dǎo)體制造過程中,光刻是一種關(guān)鍵技術(shù),通過它可以將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。光刻過程需要在硅片表面涂覆一層光敏材料,稱為光刻膠。在光刻過程完成后,需要將未曝光的光刻膠去除,這一步驟稱為去膠。傳統(tǒng)的去膠方法包括濕化學(xué)清洗和等離子清洗,但這些方法可能會對硅片表面造成損傷或者處理效率較低。等離子去膠機(jī)利用微波激發(fā)的等離子體來去除光刻膠,具有高效、環(huán)保、對硅片表面無損傷等優(yōu)點(diǎn)。
 

 

  微波等離子去膠機(jī)的工作原理是利用微波能量激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子體。在去膠過程中,首先將待處理的硅片放入真空腔體內(nèi),然后通入適當(dāng)?shù)臍怏w(如氧氣、氮?dú)獾龋?。?dāng)微波能量作用于氣體時,氣體分子被激發(fā)成等離子態(tài),產(chǎn)生大量的高能粒子。這些高能粒子與光刻膠表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將光刻膠分解成易揮發(fā)的小分子,從而實(shí)現(xiàn)去膠的目的。
  微波等離子去膠機(jī)的特點(diǎn):
  1.高效:采用微波激發(fā)技術(shù),能夠在短時間內(nèi)產(chǎn)生大量高能粒子,提高去膠效率。相比傳統(tǒng)的濕化學(xué)清洗和等離子清洗方法,處理時間更短,效率更高。
  2.環(huán)保:在去膠過程中產(chǎn)生的廢物主要是易揮發(fā)的小分子,可以通過排氣系統(tǒng)直接排放,無需使用化學(xué)試劑,減少了對環(huán)境的污染。
  3.無損傷:在去膠過程中,高能粒子主要與光刻膠發(fā)生反應(yīng),對硅片表面無損傷。這有利于提高半導(dǎo)體器件的性能和產(chǎn)量。
  4.靈活性高:可以根據(jù)不同的工藝需求調(diào)整微波功率、氣體種類和處理時間等參數(shù),適應(yīng)不同的光刻膠和硅片材質(zhì)。
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