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看完這篇文章才知道硅片清洗機的應(yīng)用范圍是如此的廣泛

更新時間:2021-06-25      瀏覽次數(shù):1425

    硅片清洗機可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片,包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面,通過分布能量的z大化支持z理想的清洗,同時保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

    硅片清洗機應(yīng)用:

    帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

    Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗

    CMP處理后的晶圓片清洗

    晶圓框架上的切粒芯片清洗

    等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

    帶保護膜的分劃版清洗

    掩模版空白部位或接觸部位清洗

    X射線及極紫外掩模版清洗

    光學(xué)鏡頭清洗

    ITO涂覆的顯示面板清洗

    兆聲輔助的剝離工

    硅片和藍(lán)寶石片清洗

    帶晶圓框架的芯片清洗

    FSI清洗

    硅片和藍(lán)寶石片清洗

    帶晶圓框架的芯片清洗

    顯示平板,ITO涂層顯示屏清洗

    帶圖案及無圖案掩模版清洗

    帶保護膜分劃板的背面清洗

    薄膜結(jié)構(gòu)膠粘劑清洗

    光刻膠涂覆/剝離和Piranha去膠

    背面多晶去除

    顯影和其他刻蝕應(yīng)用
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