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對(duì)MOCVD設(shè)備還感到非常陌生?看完這篇文章你就了解它了!

更新時(shí)間:2021-01-26      瀏覽次數(shù):1658

    NMC-4000(M)MOCVD設(shè)備概述:NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無(wú)油真空泵(5x10-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制,*的安全互鎖。

    目前,這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng),該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

    NMC-4000(M)MOCVD設(shè)備特點(diǎn):

    臺(tái)式系統(tǒng)

    10英寸不銹鋼腔體

    帶碰頭氣體分配器的射頻等離子源

    自動(dòng)調(diào)節(jié)

    4英寸基片夾、可加熱到900°C

    5個(gè)帶獨(dú)立冷卻/加熱的起泡器

    加熱氣體管道

    附加流量控制器

    250升/秒渦輪分子泵組

    5×10-7托基準(zhǔn)壓

    電腦程序全自動(dòng)驅(qū)動(dòng)

    儀器模擬用戶界面

    緊急按鈕保護(hù)和安全互鎖

    MOCVD設(shè)備選配:

    立式獨(dú)立系統(tǒng)

    感應(yīng)耦合等離子或微波等離子源

    14英寸電解拋光立方體腔體

    8英寸或12英寸基片夾

    6英寸可加熱至700°C旋轉(zhuǎn)基板臺(tái)(4英寸可到950°C)

    附加的起泡器和MFC

    晶圓自動(dòng)裝載/卸載

    可兼容集群配置

    應(yīng)用:

    3到5族半導(dǎo)體層

    藍(lán)色發(fā)光二極管

    激光二極管

    紫外-可見(jiàn)光譜光電中的氮化銦納米棒

    3D或2D材料中的二硫化鉬、氮化硼、石墨烯
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