RIE刻蝕機(jī),又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來(lái)講,等離子清洗實(shí)質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。
RIE刻蝕機(jī)的原理與激光打標(biāo)機(jī)相同,即通過(guò)高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬間氣化形成圖案、文字等。而與打標(biāo)機(jī)相比要求的精度更高,對(duì)材料表面的加工精度要求也更高,通常激光刻蝕機(jī)用在觸摸屏行業(yè)內(nèi)的ITO刻蝕,銀漿刻蝕等。
在早些年前RIE刻蝕機(jī)在行業(yè)內(nèi)幾乎都統(tǒng)稱為觸摸屏激光刻蝕機(jī),在觸摸屏行業(yè)內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用,手機(jī)電阻屏、電容屏的發(fā)展也讓激光刻蝕機(jī)廠家發(fā)展發(fā)生了質(zhì)的變化,主要體現(xiàn)為ITO玻璃激光刻蝕、銀漿玻璃激光刻蝕等,也有一部分是ITO薄膜與銀漿薄膜刻蝕。
而隨著手機(jī)行業(yè)的發(fā)展,OLED的崛起,觸摸屏行業(yè)的激光刻蝕設(shè)備逐漸呈現(xiàn)飽和趨勢(shì),RIE刻蝕機(jī)廠家也隨之加大對(duì)材料應(yīng)用的研發(fā)投入和應(yīng)用方向的投入,太陽(yáng)能、光伏行業(yè)將會(huì)成為激光刻蝕機(jī)下一個(gè)重要發(fā)展領(lǐng)域。
太陽(yáng)能光伏行業(yè)的一些采用應(yīng)用包括金屬合金薄膜材料,如鋁薄膜,銅薄膜,鎘薄膜,合金薄膜等。也有一些玻璃鍍層和特殊材料鍍層的應(yīng)用,如碳納米玻璃材料應(yīng)用,下面是一些光伏行業(yè)玻璃/薄膜激光刻蝕樣品介紹。