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RIE-PE刻蝕機(jī)使用資料詳情

更新時(shí)間:2018-03-14      瀏覽次數(shù):3726
   RIE-PE刻蝕機(jī)是基于真空中的高頻激勵(lì)而產(chǎn)生的輝光放電將四氟化碳中的氟離子電離出來(lái)從而獲得化學(xué)活性微粒與被刻蝕材料起化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生輝發(fā)性物質(zhì)進(jìn)行刻蝕的。同時(shí)為了保證氟離子的濃度和刻蝕速度必須加入一定比例的氧氣生成二氧化碳。
  RIE-PE刻蝕機(jī)主要對(duì)太陽(yáng)能電池片周邊的P—N結(jié)進(jìn)行刻蝕,使太陽(yáng)能電池片周邊呈開(kāi)路狀態(tài)。也可用于半導(dǎo)體工藝中多晶硅,氮化硅的刻蝕和去膠。
  刻蝕精度主要是用保真度、選擇比、均勻性等參數(shù)來(lái)衡量。所謂保真度度,就是要求把光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移到其下的薄膜上,即希望只刻蝕所要刻蝕的薄膜,而對(duì)其上的掩膜和其下的襯底沒(méi)有刻蝕。事實(shí)上,以上三個(gè)部分都會(huì)被刻蝕,只是刻蝕速率不同。選擇比就是用來(lái)衡量這一指標(biāo)的參數(shù)。S=V/U(V為對(duì)薄膜的刻蝕速率,U為對(duì)掩膜或襯底的刻蝕速率),S越大則選擇比越好。由于跨越整個(gè)硅片的薄膜厚度和刻蝕速率不盡相同,從而也導(dǎo)致圖形轉(zhuǎn)移的不均勻,尤其是中心和邊緣相差較大。因而均勻性成為衡量這一指標(biāo)的重要參數(shù)。除以上參數(shù)外,刻蝕速率也是一個(gè)重要指標(biāo),它用來(lái)衡量硅片的產(chǎn)出速度,刻蝕速率越快,則產(chǎn)出率越高。
  反應(yīng)離子刻蝕是以物理濺射為主并兼有化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程。通過(guò)物理濺射實(shí)現(xiàn)縱向刻蝕,同時(shí)應(yīng)用化學(xué)反應(yīng)來(lái)達(dá)到所要求的選擇比,從而很好地控制了保真度。
  在眾多半導(dǎo)體工藝中,刻蝕是決定特征尺寸的核心工藝技術(shù)之一??涛g分為濕法刻蝕和干法刻蝕。濕法刻蝕采用化學(xué)腐蝕進(jìn)行,是傳統(tǒng)的刻蝕工藝。它具有各向同性的缺點(diǎn),即在刻蝕過(guò)程中不但有所需要的縱向刻蝕,也有不需要的橫向刻蝕,因而精度差,線寬一般在3um以上。RIE-PE刻蝕機(jī)是因大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的需要而開(kāi)發(fā)的精細(xì)加工技術(shù),它具有各向異性特點(diǎn),在zui大限度上保證了縱向刻蝕,還可以控制橫向刻蝕。本節(jié)介紹的硅刻蝕機(jī)就是屬于干法ICP刻蝕系統(tǒng)。它被廣泛應(yīng)用在微處理器(CPU)、存儲(chǔ)(DRAM)和各種邏輯電路的制造中。
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